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高端光刻胶国产替代空间有多大?专家揭秘从10%到70%的突围之路

点击次数:160 新闻动态 发布日期:2025-12-06 11:24:49
“目前国内在G线和I线光刻胶的自给率只有10%,KrF和ArF这种更高端的只有1%左右。”在半导体领域被“卡脖子”的当下,国产光刻胶能否实现突围?本期节目邀请半导体专家陈明,深入解析光刻胶产业的全景图:从上游树脂、添加剂等核心材料的技术突破

“目前国内在G线和I线光刻胶的自给率只有10%,KrF和ArF这种更高端的只有1%左右。”在半导体领域被“卡脖子”的当下,国产光刻胶能否实现突围?本期节目邀请半导体专家陈明,深入解析光刻胶产业的全景图:从上游树脂、添加剂等核心材料的技术突破,到下游半导体、PCB、LCD等应用市场的替代进展。武汉太子微光电T150A光刻胶实现对国际主流产品的对标、北大团队冷冻电子断层扫描技术达到5纳米分辨率…这些技术突破如何让国产光刻胶逐步接近国际先进水平?政策支持与产业链协同又将如何推动2030年关键材料国产化率超70%的目标实现?